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射频等离子刻蚀/灰化系统

产品基本规格
公司名称 南京覃思科技有限公司
产品规格:
450mm W x 350mm D x 300mm
产品商标:
EMITECH
更新时间:
2006-12-26 13:04:45
生产产地:
英国
价格说明:
查看联系方式>> 南京覃思科技有限公司
 
 图片:
射频等离子刻蚀/灰化系统
射频等离子刻蚀/灰化系统 详细说明:

   

K1050X射频等离子刻蚀/灰化系统
K1050X等离子处理单元由固态射频发生器结合调谐电路组成,同时两种处理气体流量针阀监控,全部或部分通气口控制。
它的腔室为圆柱形,样品装载为抽屉式抽拉系统,方便使用。
真空系统为旋转机械泵或可选用膜片泵作为前级真空的涡轮分子泵。
在真空装载端口及SEM/TEM中特殊的清洁应用时,可方便更换抽屉式抽拉系统。
此系统通常使用氧及氩的混合气体,氧去除有机物质(碳氢化合物),氩对样品表面进行刻蚀。
应用:

● 石棉试样制备
● 有机材料微观灰化
● SEM&TEM中有机样品刻蚀
● 去除光刻胶及电子元件中的包胶
● 塑料品的表面处理
● SEM/TEM中的样品夹清洗


特点:

● 固态射频发生器及调谐电路
● 全自动控制
● 抽屉式结构
● 两种处理气体
● 紧凑的台式系统
优点:

● 低温灰化过程
● 易操作
● 装/卸样品方便
● 可选择不同的混合气体
● 节省空间
● 注:我们建议使用No. 2泵,
它具有“专用的油”。
技术规格

仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 300mm H 重量:25Kg
桶形工作腔室:‘Pyrex’160mm L x 110mm Dia.(硼硅酸盐玻璃作为标准配置)
拉出式抽屉:样品托盘为抽拉式
等离子输出:射频电源-固态150瓦射频峰值,通常操作范围在25到75 瓦 @ 13.56mhz.
(备注:所使用的频率为国际标准组织CISPR认可的“工业”频率)
真空测量范围:完整的操作真空显示的活性计量头ATM - 1x10-5 mbar全刻度-通常操作真空为0.5mbar到1.0mbar
数字计时单元:99.9小时选择范围时间显示。在灰化过程结束后自动终止。
双气体流控制:双气体针阀控制,可选1或2或两种气体(校准5到 100cm3/分 空气 @ A.T.P.)
电源:230V 50Hz (包括泵最大电流5 Amp);115V 60Hz(包括泵最大电流10 Amp)
Services: Process Gas at nominal 5 psi, (0.33bar)
真空泵:No. 2 泵 (with a synthetic oil ‘‘Fomblin‘‘ for Oxygen or Corrosive Process Gases.) 2m3/Hr

 
 
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