K650X溅射镀膜仪(三靶大样品室)

    功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计，最大的“up-time”，这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。
    溅射参数可被预先设置，包括气体放气针阀，此阀为电磁阀，具有自动控制，可精确及重复膜厚沉积。
    溅射头互锁，系统可容易选配K250镀碳附件。
    本仪器为全自动操作，可控制独立的真空泵。

K650T Turbo Unit与上面相同，但具有涡轮分子泵，抽速60升/秒具有更高及清洁的真空。

 

特点
·三个靶面溅射系统
·全自动控制
·低电压溅射
·高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm)
·具有倾斜装置的特殊旋转台
·均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为 20nm 或200埃)
·225 mm(6英寸)腔室直径
·可接膜厚监视器，实时监视镀层厚度

 

优点
·适合大样品，如晶圆
·易操作
·无需冷却样品台
·精确的再次涂层
·适合各种样品
·膜厚度重复性好
·容易装载或卸载大样品—最大到6"晶圆
·可预设沉积厚度

 

性能指标
1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H
2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 225mm Dia x 125mm H
3.基座： 110 mm直径x 115mm高
4.安全钟罩：聚碳酸酯
5.重量：24公斤
6.靶：3 x 60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面)
7.旋转台：直径为155 mm，可调节
8.样品台：距离靶面40到50 mm
9.真空范围：ATM-1x10^-2 mbar
10.沉积电流范围：0-100mA
11.沉积速率：0-20nm/分
12.溅射时间： 0-4 分钟
13.预设置针阀：控制氩
14.电源：230 伏 50Hz
  (8amp max. including Pump)