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扩展的偏振光学系统（Extended Polarization Optical System）首次使用50W低能量X射线管发出的原始X射线作为辐射源，用于Na-U元素的同时分析，从X射线发出的原始X射线通过高能量偏振光学系统进行聚集，得到的完全偏振且部分单色的X射线可以高灵敏地测定各种元素。这种分析技术在许多应用中不需要高吸收辐射的滤光片。
SPECTRO XEPOS具有广泛的应用领域—从石化、建材、废物处理以及再加工工业到直接产品控制。油中各种元素的分析便是一例。使用SPECTRO XEPOS，在氮气保护状态下，在300秒钟之内，对于元素 P、S、Cl、Ca、Cu、Zn和Ba的检测下限在1—7ｕg/g。在检出下限以上，测量的重现性RSD≤1％。SPECTRO XEPOS也适用于耐火材料及陶瓷工业的分析。采用四硼酸锂熔片制样法时，样品中主要成分测量的重现性RSD＝0.22％。
XEPOS型X射线荧光光谱仪可广泛应用于各种电子材料及塑料中铅、镉、（汞）等元素分析，检出下限低，灵敏度高、稳定性好，可应对欧洲WEEE、RoHS指令以及SONY STM-0083标准。
配套部件：
X射线荧光分析的一个显著特点是试样制备简单。如果用实际考察过的制样设备能进一步简化您的工作。
斯派克公司有一系列XRF光谱分析用辅助设备，包括：用于制备熔片的试样熔融系统。试样熔融后可防止颗粒度、基体和表面粗糙效应。手动压力机和压样膜把粉末试样直接压成试片。熔融和压片都能直接放在光谱仪上分析而无需进一步加工。如果某些样品还需要进一步粉碎，斯派克公司有不同的粉碎机、球磨、振动和离心磨。
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